光刻膠SU-8 2000

加工準則

SU-8 2000光刻膠通常用常規(guī)的UV（350-400 nm）輻射曝光，盡管建議使用i-line（365 nm）波長。 SU-8 2000也可能會受到電子束或X射線輻射的照射。 曝光后，交聯(lián)在兩個步驟中進行（1）在曝光步驟中形成強酸，然后（2）在曝光后烘烤（PEB）步驟中進行酸催化的熱驅(qū)動環(huán)氧交聯(lián)。 正常過程是：旋涂，軟烤，曝光，PEB，然后顯影。

SU-8 2000功能

•高縱橫比成像

•單層涂膜厚度為0.5至> 200mm

•改善涂層性能

•更快干燥以提高產(chǎn)量

•近紫外線（350-400 nm）處理

•垂直側(cè)壁

硬烤（固化）

SU-8 2000具有良好的機械性能。但是，對于要保留成像的抗蝕劑作為終設(shè)備一部分的應(yīng)用，可以將硬烘烤結(jié)合到該過程中。通常僅在終設(shè)備或零件在正常運行期間要進行熱處理時才需要這樣做。添加了硬烘烤或終固化步驟，以確保SU-8 2000的性能在實際使用中不會改變。 SU-8 2000是一種熱敏樹脂，因此暴露于比以前高的溫度下，其性能會不斷變化。我們建議使用的終烘烤溫度要比設(shè)備的預(yù)期工作溫度高10°C。根據(jù)所需的固化程度，通常使用的烘烤溫度范圍為150°C至250°C，烘烤時間為5至30分鐘。注意：硬烘烤步驟還可用于對顯影后可能出現(xiàn)的任何表面裂紋進行退火。建議的步驟是在150°C下烘烤幾分鐘。這適用于所有膜厚度