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    當前位置:首頁   >  產品中心  >  勻膠機/勻膠旋涂儀  >  SPIN系列  >  M-SPIN 200勻膠旋涂儀M-SPIN

    勻膠旋涂儀M-SPIN

    簡要描述:勻膠旋涂儀M-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作,分配移動托盤,可定義數量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯鎖機制,和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊,該模塊連接到柔性電纜,外接到一個19英寸外部控件上。

    • 產品型號:M-SPIN 200
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2025-07-02
    • 訪  問  量:2923

    詳細介紹

    勻膠旋涂儀M-SPIN 200是用于均勻涂覆和干燥晶圓片或襯底。該勻膠旋涂儀適用于直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底。它可使用分配臂全自動工作,分配移動托盤,可定義數量。該勻膠旋涂儀配備了頂蓋的聯鎖機制,和可視化全圖形觸摸面板。M-Spin 200勻膠旋涂儀包含一個內置模塊,該模塊連接到柔性電纜,外接到一個19英寸外部控件上。

    勻膠旋涂儀M-SPIN 200產品參數:

    可處理襯底尺寸:直徑大為8英寸的晶圓片,或大為6英寸 x 6英寸的襯底;

    旋轉速度:達9,000 rpm(以1 rpm步長可調);

    固定晶圓片或襯底的裝置:真空托盤;

    處理時間:(1-999秒,可在1秒內調整);

    加速度:1-5,000rmp/sec;

    其他參數:20個程序段,每個40步

    設備尺寸:約 480mmx 360mm x 416mm(不帶蓋子)

    控制器尺寸:約 145mmx 100mm x 120mm

     

    產品選配件:

    適用各種尺寸大小的托盤

    分配臂

     

    主營產品:

    Laurell勻膠機     

    Harrick等離子清洗機

    Thetametrisis膜厚儀  

    Microxact探針臺

    ALD原子層沉積系統

    TRION反應離子刻蝕機

    Uvitron紫外固化箱

    NXQ紫外曝光光刻機       

    Novascan紫外臭氧清洗機

    Nilt納米壓印機

    Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

    Annealsys高溫退火爐

    Kinematic程序剪切儀

    Laurell EDC系統,濕站系統     

    Wabash/Carver自動壓片機

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