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    韓國Mask Aligner光刻機

    簡要描述:光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。

    • 產品型號:L-100和M-100
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2025-07-02
    • 訪  問  量:2468

    詳細介紹

    L-100

    光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。L-100專為4英寸晶圓而設計,具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對準器有一個365nm的UV LED光源。365nm處的光功率為20mW/cm ??捎糜谏虡I半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。


    技術參數

    類型

    PLC手動控制系統

    波長

    365 nm

    掩膜版尺寸

    5英寸

    紫外光強度

    20 ?

    基片尺寸

    4英寸晶圓

    紫外線光束均勻度

    ≤3 %

    分辨率

    1 ?

    接觸模式

    真空/硬/軟

    對準精度

    1 ?

    顯微鏡

    CCD變焦顯微鏡



    選配項

    Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA

    M-100

    光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。M-100專為4英寸晶圓而設計,具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對準器有一個350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm ??捎糜谏虡I半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。


    技術參數

    類型

    PLC手動控制系統

    波長

    350 ~ 450 nm

    掩膜版尺寸

    最大5*5英寸

    紫外光強度

    15 ~ 25/ ?

    基片尺寸

    4英寸晶圓

    紫外線光束均勻度

    3 ~ 5 %

    分辨率

    1 ?

    接觸模式

    真空/硬/軟/接近

    對準精度

    1 ?

    顯微鏡

    CCD變焦顯微鏡

    紫外燈和電源

    350W

    選配項

    Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA





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