18971121198
當前位置：首頁 > 產(chǎn)品中心 > 掩膜曝光光刻機 > Mask Aligner光刻機 > L-100和M-100韓國Mask Aligner光刻機
簡要描述：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術。
產(chǎn)品型號：L-100和M-100 廠商性質(zhì)：代理商更新時間：2025-07-02訪 問 量：2386產(chǎn)品分類
詳細介紹
L-100
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術。L-100專為4英寸晶圓而設計，具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對準器有一個365nm的UV LED光源。365nm處的光功率為20mW/cm 。可用于商業(yè)半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。
技術參數(shù)
類型 | PLC手動控制系統(tǒng) | 波長 | 365 nm |
掩膜版尺寸 | 5英寸 | 紫外光強度 | 20 ? |
基片尺寸 | 4英寸晶圓 | 紫外線光束均勻度 | ≤3 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟 |
對準精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
選配項 | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
M-100
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術。M-100專為4英寸晶圓而設計，具有硬接觸、軟接觸和真空接觸三種接觸方式。對準器有一個350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm 。可用于商業(yè)半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。
技術參數(shù)
類型 | PLC手動控制系統(tǒng) | 波長 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大5*5英寸 | 紫外光強度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 4英寸晶圓 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對準精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項 | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
產(chǎn)品咨詢
聯(lián)系人：鄧經(jīng)理
地址：洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
郵箱：sales@mycroinc.com
傳真：歡迎您關注我們的微信公眾號了解更多信息
掃一掃
歡迎來到