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簡(jiǎn)要描述：mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術(shù)（soft UV-NIL）設(shè)計(jì)的光固化納米壓印膠，特別適配于PDMS類(lèi)軟質(zhì)印章材料（推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成為圖案轉(zhuǎn)移工藝中理想的蝕刻掩模材料。
產(chǎn)品型號(hào)：mr-NIL210-100nm 廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2025-07-02訪 問(wèn) 量：727產(chǎn)品分類(lèi)
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品概述
mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術(shù)（soft UV-NIL）設(shè)計(jì)的光固化納米壓印膠，特別適配于PDMS類(lèi)軟質(zhì)印章材料（推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成為圖案轉(zhuǎn)移工藝中理想的蝕刻掩模材料。
核心優(yōu)勢(shì)
1. 兼容性
l 適用于硅、二氧化硅、玻璃、藍(lán)寶石等多種基材，搭配專用底涂劑（如mr-APS1或Omnicoat）可進(jìn)一步提升附著力。
l 支持PDMS、PFPE等軟質(zhì)印章，以及硬質(zhì)聚合物印章（如OrmoStamp®），滿足多樣化工藝需求。
2. 高效光固化性能
l 紫外光波段（320–420 nm）下快速固化，氧氣環(huán)境影響極低。
l 推薦曝光劑量>1 J/cm2，支持汞燈或UV-LED光源（365–405 nm），固化速度隨光強(qiáng)提升而加快。
3. 精準(zhǔn)的膜厚控制
l 提供100nm、200nm、500nm三種標(biāo)準(zhǔn)厚度型號(hào)，旋涂工藝穩(wěn)定（3000 rpm，30秒），公差范圍小。
l 支持定制稀釋（推薦稀釋劑mr-T 1078），可靈活調(diào)整膜厚至更低范圍。
4. 工藝友好性
l 預(yù)烘條件溫和（60°C，3分鐘），減少溶劑殘留。
l 殘膠去除簡(jiǎn)便：氧氣等離子體或濕法剝離（如piranha溶液）均可高效清除。
5. 高可靠性
l 無(wú)硅純有機(jī)成分，固化后形成熱固性聚合物網(wǎng)絡(luò)，穩(wěn)定性強(qiáng)。
l 存儲(chǔ)方便（15–25°C），保質(zhì)期6個(gè)月。
典型應(yīng)用場(chǎng)景
l 半導(dǎo)體器件制造：高分辨率圖案轉(zhuǎn)移，適用于納米級(jí)結(jié)構(gòu)蝕刻。
l 光學(xué)元件加工：藍(lán)寶石等硬質(zhì)基材上的微納結(jié)構(gòu)制備。
l 科研與教育：軟UV-NIL技術(shù)研究及原型開(kāi)發(fā)。
技術(shù)參數(shù)速覽
特性 | mr-NIL210-100nm | mr-NIL210-200nm | mr-NIL210-500nm |
膜厚（nm） | 100 ± 15 | 200 ± 20 | 500 ± 25 |
動(dòng)態(tài)粘度（mPa·s） | 1.4 ± 0.2 | 1.7 ± 0.2 | 2.9 ± 0.5 |
折射率（589 nm） | 1.515 ± 0.002 | 1.515 ± 0.002 | 1.517 ± 0.002 |
產(chǎn)品咨詢
聯(lián)系人：鄧經(jīng)理
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