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詳細介紹
產品概述
mr-NIL210系列是一款專為軟紫外納米壓印技術（soft UV-NIL）設計的光固化納米壓印膠，特別適配于PDMS類軟質印章材料（推薦使用Shin-Etsu的KER-4690 PDMS印章）。其高精度、易操作的特性，使其成為圖案轉移工藝中理想的蝕刻掩模材料。
核心優勢
1. 兼容性
l 適用于硅、二氧化硅、玻璃、藍寶石等多種基材，搭配專用底涂劑（如mr-APS1或Omnicoat）可進一步提升附著力。
l 支持PDMS、PFPE等軟質印章，以及硬質聚合物印章（如OrmoStamp®），滿足多樣化工藝需求。
2. 高效光固化性能
l 紫外光波段（320–420 nm）下快速固化，氧氣環境影響極低。
l 推薦曝光劑量>1 J/cm2，支持汞燈或UV-LED光源（365–405 nm），固化速度隨光強提升而加快。
3. 精準的膜厚控制
l 提供100nm、200nm、500nm三種標準厚度型號，旋涂工藝穩定（3000 rpm，30秒），公差范圍小。
l 支持定制稀釋（推薦稀釋劑mr-T 1078），可靈活調整膜厚至更低范圍。
4. 工藝友好性
l 預烘條件溫和（60°C，3分鐘），減少溶劑殘留。
l 殘膠去除簡便：氧氣等離子體或濕法剝離（如piranha溶液）均可高效清除。
5. 高可靠性
l 無硅純有機成分，固化后形成熱固性聚合物網絡，穩定性強。
l 存儲方便（15–25°C），保質期6個月。
典型應用場景
l 半導體器件制造：高分辨率圖案轉移，適用于納米級結構蝕刻。
l 光學元件加工：藍寶石等硬質基材上的微納結構制備。
l 科研與教育：軟UV-NIL技術研究及原型開發。
技術參數速覽
特性 | mr-NIL210-100nm | mr-NIL210-200nm | mr-NIL210-500nm |
膜厚（nm） | 100 ± 15 | 200 ± 20 | 500 ± 25 |
動態粘度（mPa·s） | 1.4 ± 0.2 | 1.7 ± 0.2 | 2.9 ± 0.5 |
折射率（589 nm） | 1.515 ± 0.002 | 1.515 ± 0.002 | 1.517 ± 0.002 |
產品咨詢
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