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    • PlasmaStar 200/200 RIE等離子刻蝕機
      

      


      PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統的*功能。 腔室材料是硬質陽極氧化鋁， 有幾種不同的電極設計，包括用于反應離子刻蝕（RIE）和平面處理的水冷平板電極，用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極，用于小化離子損傷的下游電極，和用于普通的圓柱形籠式電極。
      

      

      

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      產品價格：面議
      

      廠商性質：代理商
      

      更新日期：2025-07-01
      

      

      

      


      

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    • PlasmaStar 100/100 RIE反應離子刻蝕機PlasmaStar 100
      

      


      反應離子刻蝕機PlasmaStar 100儀器介紹      
PlasmaSTAR®系列等離子處理系統適合處理所有的材料，擁有多種腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小，用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外，觸摸屏計算機控制，多級程序控制和組件控制，操作簡單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統的*功能。
      

      

      

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      產品價格：面議
      

      廠商性質：代理商
      

      更新日期：2025-07-01
      

      

      

      


      

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    • PlasmaSTAR® 100/200等離子處理系統
      

      


      PlasmaSTAR®系列等離子處理系統適合處理所有的材料。 PlasmaSTAR®系統擁有多種腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。
      

      

      

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      產品價格：面議
      

      廠商性質：代理商
      

      更新日期：2025-07-01
      

      

      

      


      

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    • 聯系人：鄧經理
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    • 地址：洪山區珞獅南路147號未來城A棟
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    • 傳真：
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