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深圳密維斯科技有限公司
大型光固化EOS P尼龍3D打印機
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EOS P系統燒結過程中無需支撐結構。 |
模塊化的系統構成,激光燒結系統可根據客戶預算及生產環境進行配置。 |
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| 鋪粉裝置升級,提高效率 |
通過標準化零件屬性管理系統(含可選及標配模塊), |
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| 標準化零件屬性管理系統的選配模塊可在任何時刻增加。 |
EOS P系統的IPCM配套設備包含自動供粉系統(可選配套,適用于大規模生產); |
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| EOS P系統的*優勢是其所制造的部件的高質量、*的生產能力、高度自動化的外設、專業的材料管理系統。 |
軟件:協助客戶獲得的生產能力。 |
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產品型號 | EOS P 110 | EOS P 396 | EOS P 760 |
成型尺寸 | 200×250×330mm | 340×340×600mm | 700×380×580mm |
建造速度 | 可達20mm/h | 可達48mm/h | 可達32mm/h |
厚度(與材料有關) | 0.06/0.10/0.12mm | 0.06/0.10/0.12/0.15/0.18mm | 0.06/0.10/0.12/0.15/0.18mm |
激光發射器類型 | CO?,30W | CO?,70W | CO?,2*50W |
光學系統 | F-theta-lens | F-theta-lens | F-theta-lens |
激光掃描速度 | 速度為5m/s | 速度為6m/s | 速度為2*6m/s |
支撐結構 | 不需要 | 不需要 | 不需要 |
電源支持 | 16A | 32A | 32A |
功率 | 5kW,普遍情況1.4kW | 額定10kW,普遍情況2.4kW | 12kW,普遍情況3.1kW |
氮發生裝置 | 標準 | 集成 | 集成 |
壓縮氣體供應 | 7000hPa;20m3/h | 最小. 10 m3/h; 5,000 hPa | 20 m3/h; min. 6,000 hPa |
產品尺寸 | 1320×1067×2204mm | 1840×1175×2100mm | 2250×1550×2100mm |
控制終端 | / | 950 mm x 700 mm x 1,550 mm | 1,045 mm x 850 mm x 1,620 mm |
粉末傳輸系統 | / | 1,480 mm x 1,170 mm x 1,470 mm | 1,890 mm x 1,350 mm x 1,550 mm |
推薦安裝空間 | / | 最小min. 4.3 m x 3.9 m x 3.0 m | 4.8 m x 4.8 m x 3.0 m |
重量 | 600kg | 1060kg | 2300kg |
軟件 | EOS RP Tools(可選), Desktop PSW | EOS PSW, EOS RP Tools EOSTATE | EOS RP Tools,EOSTATE; |
CAD數據 | STL | STL | STL |
產品認證 | CE | CE, NFPA | CE, NFPA |
網絡 | Ethernet | Ethernet | Ethernet |
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