石墨烯通常通過化學氣相沉積（CVD）在生長基底上沉積，然后轉移到適合其特定應用的目標基底上。等離子體處理可用于支持和促進各種石墨烯轉移方法。介紹石墨烯是一種具有六方晶體結構的單原子碳層，由于其許多DT的材料特性，在過去幾十年中受到了廣泛的研究。憑借其高導電性和導熱性、近乎光學的透明度和高機械強度，石墨烯被認為是一種非常通用的二維材料，可用于廣泛的應用，包括能源儲存、光學顯示和傳感器[1-3]。生產石墨烯的常見方法是CVD，使用碳氫化合物氣體或含碳前體與催化襯底（如銅銅箔）結合...

氧化鋅（ZnO）是一種令人興奮的可替代寬帶隙半導體，在傳感器和柔性電子器件中具有廣闊的應用前景。等離子體處理可用于為氧化鋅沉積準備表面，通過去除有機雜質和表面改性改善電性能，并促進氧化鋅器件的制造。介紹氧化鋅是一種寬帶隙半導體，具有與氮化鎵（GaNIII-V）半導體相似的電氣和物理特性。由于鋅含量相對豐富且能夠在低溫下沉積氧化鋅，因此氧化鋅作為氮化鎵的低成本替代品更具有吸引力，可用于發光二極管(LED)、光電子學和柔性電子學。此外，氧化鋅在可見光譜中是光學透明的，通過適當的摻...

等離子清洗機常用的工藝氣體有氧氣、氬氣、氮氣、壓縮空氣、二氧化碳、氫氣、四氟化碳等。它是將氣體電離產生等離子體對工件進行表面處理,無論是進行清洗還是表面活化,為達到Z佳的處理效果會選用不同的工藝氣體,那么等離子清洗機的常用工藝氣體又該如何選擇呢?01氧氣氧氣是等離子清洗常用的活性氣體,屬于物理+化學的處理方式,電離后產生的離子體能夠對表面進行物理轟擊,形成粗糙表面。同時高活性的氧離子能夠與被斷鍵后的分子鏈發生化學反應形成活性基團的親水表面,達到表面活化的目的;被斷鍵后的有機污...

紫外線臭氧如何清潔樣品？紫外線臭氧清潔是一種光敏氧化過程，其中處于激發態的有機分子與臭氧分子發生化學反應，導致鍵斷裂和分子從表面解離。該方法利用高強度紫外光源，該紫外光源在185納米和254納米處具有兩個主要發射峰。這兩種波長負責不同的過程，最終導致表面的清潔。低于200納米的輻射被分子氧強烈吸收。吸收的光子的能量足以打破氧-氧雙鍵，導致氧(O)的兩個自由基的形成。這些自由基隨后可以與分子氧反應，產生臭氧分子(O3).254nm的紫外輻射容易被存在于許多基底表面上的有機物質吸...

無真空托盤有哪些好處呢？1.薄基材很容易被真空吸盤翹曲，從而影響涂層均勻性。沉積在多孔基板（如陶瓷）頂部的溶液上的真空力也會導致不均勻性。這會降低設備的質量和性能。我們的無真空卡盤通過保持基材平整且不受損壞來確保薄膜分布均勻。2.無需真空管路，旋涂機可以在任何地方設置，只需一個電源插座即可?？赏惶煸趯嶒炇夜ぷ髋_、通風柜或手套箱中旋涂使用。3.真空泵容易損壞，導致昂貴的維修和項目延誤。這主要是由于將過量的溶劑吸入真空管路，損壞了內部組件。我們的旋涂機是一種可靠且完整的替代方案...

美國Uvitron紫外固化箱是一種不需要熱源的干燥技術，采用紫外線（UV）作為激發源，通過特殊的光引發劑在材料表面引發聚合反應，使涂層、油墨、膠水等迅速固化。相較于傳統的熱固化方法，紫外固化具有許多優點，如固化速度快、節能環保、無需揮發溶劑等。因此，UV固化技術在多個領域得到了廣泛應用。美國Uvitron紫外固化箱的工作原理：1.紫外光源：配備高效的UV光源，通常是汞燈或LED燈。汞燈提供強大的紫外光輻射，能夠快速激發光引發劑，促進材料的固化；而LED燈則因其低能耗和長壽命逐...

Nanonex納米壓印光刻機作為一種先進的納米加工設備，在微納米制造領域展現出巨大的潛力。其高分辨率、成本效益和可適應性強的特點，使其在半導體、光電器件、生物傳感器等多個領域發揮著重要作用。Nanonex納米壓印光刻機的工作原理：1.模具制作：先通過電子束光刻或其他技術制作出精確的模具，模具上刻有所需的納米級圖案，這些圖案通常具有特定的形狀和尺寸。2.涂布光刻膠：在待加工的基材（如硅片或玻璃基板）表面均勻涂布一層光刻膠。光刻膠的性質根據應用需求可能有所不同，通常使用高分子材料...