12英寸帶真空退火爐,使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。

RTP600V--國產立式快速退火爐 6寸真空使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。

國產立式快速退火爐 8寸真空，RTP800V，使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平?？茖W的波長分布保證半導體材料可有效吸收。

國產小型桌面式快速退火爐 4寸真空，RTP500SV，使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平。科學的波長分布保證半導體材料可有效吸收。

國產小型桌面式快速退火爐 4寸非真空，RTP500Z，使用多溫區控溫，可通過APP界面調節溫度均勻性。優秀的光源冷卻系統確保光源壽命達到國際水平?？茖W的波長分布保證半導體材料可有效吸收。

TC-Wafer校準儀是一款專注晶圓溫場均勻性測量的儀器，適配市場上大多數主流廠家生產的RTP設備。