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在深紫外（DUV）高精度光學(xué)領(lǐng)域，193nmArF激光技術(shù)是先進(jìn)制程半導(dǎo)體光刻、高功率激光系統(tǒng)與天文觀測(cè)的核心支撐，而光學(xué)材料的性能直接決定系統(tǒng)的極限精度與長(zhǎng)期穩(wěn)定性。德國(guó)HellmaMaterials承襲【詳情】
