Nanonex納米壓印光刻機主要由螺栓，上層板，中間板，傳動螺栓，傳動導(dǎo)向桿，壓塊和底層板組成，用螺栓、螺母連接固定。本設(shè)備結(jié)構(gòu)新穎、簡單，易于加工，并采用壓塊、導(dǎo)向桿和底層板分離的結(jié)構(gòu)設(shè)計，不僅實現(xiàn)了模具和硅片的自調(diào)平衡、達到很高的加工進度，而且降低了底層板，中間板與傳動導(dǎo)向桿之間的位置精度要求，降低了制造成本。
Nanonex納米壓印光刻機主要用途：
1.本機針對各大專院校、企業(yè)及科研單位，對光刻機使用特性研發(fā)的一種高精度光刻機。
2.由于本機找平機構(gòu)*，找平力小、使本機不僅適合單晶硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片、的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。
3.工作方式：本機為單面對準(zhǔn)、單面曝光。
Nanonex納米壓印光刻機主要功能特點：
1.適用范圍廣：適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準(zhǔn)曝光。
2.結(jié)構(gòu)*：具有半球式找平機構(gòu)和可實現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機構(gòu)。
3.操作簡便：采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實現(xiàn)真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調(diào)試、維護、修理都非常簡便。
4.可靠性高：采用進口電磁閥、按鈕、定時器；采用dute的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。
5.特設(shè)“碎片"處理功能：解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題。
聯(lián)系人：鄧經(jīng)理
地址：洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
郵箱：sales@mycroinc.com
傳真：
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