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    WS1000濕法刻蝕機(jī)應(yīng)用廣泛

    更新時(shí)間:2016-06-27      點(diǎn)擊次數(shù):2716
       WS1000濕法刻蝕機(jī)的應(yīng)用非常廣泛,下面來看下它應(yīng)用在哪些方面:
      
      WS1000濕法刻蝕機(jī)應(yīng)用領(lǐng)域
      1、半導(dǎo)體元件、印刷線路板的清洗。
      2、高分子材料表面修飾
      3、生物芯片、微流控芯片的清洗
      4、芯片、電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗
      5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。
      6、光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗。
      7、各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質(zhì)的清洗。
      8、各種醫(yī)療器材和儀器的清洗。
      9、增加復(fù)合材料、生物分子材料表面的結(jié)合力。
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