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    • 238正膠顯影液TMAH  四甲基氫氧化銨
      

      


      正膠顯影液TMAH  四甲基氫氧化銨  能選擇性地溶解未曝光的光刻膠，留下已曝光部分形成所需的圖形，從而將掩膜版上的圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片等襯底材料上。同時(shí)，它還可用于硅片的濕法刻蝕，對(duì)硅等材料進(jìn)行腐蝕加工，制作微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）結(jié)構(gòu)，如加速度計(jì)、壓力傳感器等。
      

      

      

      訪問(wèn)次數(shù)：1204
      

      產(chǎn)品價(jià)格：面議
      

      廠商性質(zhì)：代理商
      

      更新日期：2025-08-05
      

      

      

      


      

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