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北京科創鼎新真空技術有限公司
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介紹: ① 真空:2.0x10-8Pa; ② 材質:316L不銹鋼; ③ 接口法蘭:全部CF刀口法蘭; ④ 表面處理:除油電解拋光處理; ⑤ 腔體尺寸:根據用戶需求定制
介紹:
① 真空:2.0x10-8Pa;
② 材 質:316L不銹鋼;
③ 接口法蘭:全部CF刀口法蘭;
④ 表面處理:除油電解拋光處理;
⑤ 腔體尺寸:根據用戶需求定制。
MBE分子束外延設備介紹:
分子束外延(MBE)是新發展起來的外延制膜方法,也是一種特殊的真空鍍膜工藝。外延是一種制備單晶薄膜的新技術,它是在適當的襯底與合適的條件下,沿襯底材料晶軸方向逐層生長薄膜的方法。
該技術的優點是:使用的襯底溫度低,膜層生長速率慢,束流強度易于準確控制,膜層組分和摻雜濃度可隨源的變化而迅速調整。用這種技術已能制備薄到幾十個原子層的單晶薄膜,以及交替生長不同組分、不同摻雜的薄膜而形成的超薄層量子顯微結構材料。
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