退火爐

簡要描述：普通擴散爐，管式爐由于升溫速率很慢，因此對測溫模塊的響應速度都沒有特殊要求，常常采用市場上常見低廉的所謂“數字智能"控溫表頭來作為測溫控溫的主要組件，俗稱“歐陸表"。
但是，在快速升溫的情況下，測溫表頭的工作頻率已經跟不上溫度變化的速度，有時候樣品實際溫度與測量溫度會相差上百！因此就不能使用通常的辦法測溫。和國外主流產品一樣，東之星的快速熱處理設備也采用自主研發的溫度測量電路以及控制電路，為設備

產品型號：RTP500V-mini/RTP600V
廠商性質：代理商
更新時間：2025-07-02
訪問量：1286

產品咨詢聯系我們

產品分類

詳細介紹

目前在半導體技術領域中，科學家試圖利用極微量的氧氣對薄膜表面進行去毛刺工藝，如果氧氣量過大，將可能把整個薄膜“吃掉"，氧氣量小但不穩定，則影響到成品的品質和重復性。這對RTP在微量氣體的混氣控制上提出了極大的挑戰。
　　實現常壓下千分之一的氣體分壓。即反應氣體和保護氣氛的常壓配比為1比1000。一般實現氣體配比的方法是使用質量流量控制器（MFC），對兩種氣體的流量進行精確控制，例如配比為3：2時，兩個質量流量計的流量分別調整為600sccm和400sccm，這時氣體配比就可以實現3：2的配比。
　但是，當兩種氣體的配比非常懸殊的時候，就產生兩個問題，首先是大量程MFC的誤差絕對值超過了小量程氣體MFC本身的量，使得配比的重復性和精確度變差。即使使用進口的MFC也不能幸免。其次，由于一方氣體流量過小，會使流量大的一方的氣體阻止或倒灌到流量小的氣路中，從而無法保證反應氣體進入反應室內。
北京東之星應用物理研究所首先采用精確的壓力控制使壓力與流量有效的配合，同時委托MFC廠家以東之星*的送氣控制方式定制了MFC。從而有效的防止了大配比氣體（一般是氮氣）的倒灌和阻塞。才實現了高精確度的千分之一氣體配比。

產品咨詢

上一篇：M6000/M6100/M6200引線鍵合機
下一篇：R2P NanoImprinter納米壓印機

退火爐

留言框

產品：

您的單位：

您的姓名：

聯系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細地址：

補充說明：

驗證碼：